網(wǎng)格陣列位于50mm×50mm，1.5mm厚度的玻璃基底上（玻璃基底上真空濺射低反射率的鉻制成），100µm、250µm、500µm、1000µm和2000µm網(wǎng)格間距，25×25陣列。
網(wǎng)格分布用于決定成像系統的畸變。理想情況下，網(wǎng)格的水平和豎直線(xiàn)是垂直的，畸變圖像會(huì )在線(xiàn)上顯示扭曲，這種圖像可以用于修正畸變。
訂購信息：
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貨號 |
產(chǎn)品描述 |
規格 |
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R1 |
Grids with line pitch of 2000微米，間距2000微米 |
個(gè) |
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R2 |
Grids with line pitch of 1000微米，間距1000微米 |
個(gè) |
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R3 |
Grids with line pitch of 500微米 |
個(gè) |
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R4 |
Grids with line pitch of 250微米 |
個(gè) |
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R10 |
Grids with line pitch of 100微米 |
個(gè) |
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