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    EMS150R Plus鍍膜儀

        新一代鍍碳儀-EMS150R E Plus型鍍碳儀(真空鍍膜儀/噴碳儀/蒸鍍儀)采用最新科技技術(shù)研制而成,彩色觸摸液晶屏,快速的參數輸入,數種碳絲匹配,友好的用戶(hù)界面,帶給你不一般的操作感受!

     

     

    提供3個(gè)版本的儀器:

    l  EMS150R S Plus-噴金儀/離子濺射儀(適用于真空噴鍍非氧化型金屬,如金,鉑,鈀等)

    l  EMS150R E Plus-噴碳儀/碳蒸鍍儀(適用于真空噴鍍碳膜,特別適用于SEM,用碳絲或碳繩)

    l  EMS150R ES Plus-真空鍍膜儀(離子濺射儀和碳蒸鍍儀的結合體)

    EMS150R Plus是一款多功能緊湊型機械泵抽真空鍍膜系統,對于SEM樣品制備及其它鍍膜應用非常理想。直徑為165mm的腔室可容納多種需要鍍膜的樣品,在SEM應用中提高成像質(zhì)量。

    EMS150R Plus是一款多功能緊湊型機械泵抽真空鍍膜系統,對于SEM樣品制備及其它鍍膜應用非常理想。直徑為165mm的腔室可容納多種需要鍍膜的樣品,在SEM應用中提高成像質(zhì)量。        

    EMS150R ES Plus這個(gè)雙重用途、結構緊湊、機械泵抽真空的鍍膜系統可提供無(wú)與倫比的多用途鍍膜,其標配有濺射插入頭和碳絲蒸發(fā)插入頭??焖?、易更換的鍍膜插入頭,能在同一個(gè)緊湊設計中實(shí)現金屬濺射、碳蒸鍍和輝光放電三者之間的快速轉換。注意,輝光放電選項限EMS150R S PlusEMS150R ES Plus可用,它可實(shí)現樣品表面改性(如疏水表面改為親水表面)。

    采用全自動(dòng)觸摸屏控制,可快速輸入數據。自動(dòng)放氣控制功能確保了濺射期間最佳的真空狀態(tài),可提供良好的一致性和可重復性。

    智能識別系統可自動(dòng)探測安裝了何種類(lèi)型的鍍膜插入頭,立即運行相應的鍍膜方案??纱鎯Χ鄠€(gè)用戶(hù)自定義的鍍膜方案,這對于需更改鍍膜參數實(shí)現不同應用的多用戶(hù)實(shí)驗室非常理想。多種樣品臺組件適用于各種尺寸和類(lèi)型的樣品;所有樣品臺都具有快速、易更換及落入式設計的特點(diǎn)。

    可預編程的鍍膜參數及方案確保結果一致,具有可重復性。設計先進(jìn)的碳蒸鍍插入頭操作簡(jiǎn)單,具有對蒸發(fā)電流參數的完全控制,確保了SEM應用中一致的和可重復的碳沉積??蛇x的膜厚監控附件用于可重復的膜厚控制。

    濺射、碳蒸鍍、輝光放電插入頭及多種可選件,使EMS150R對于多用戶(hù)實(shí)驗室應用非常理想??蔀R射一系列非氧化性金屬,如金、銀、鉑和鈀等等。碳絲蒸鍍插入頭處理樣品速度非???。也可選用碳棒蒸發(fā)。還可應用于金屬薄膜研究及電極的應用。

     

    濺射靶材或碳蒸發(fā)源的選用:

    l  金:常規SEM應用時(shí)使用最普遍的靶材;濺射速度快且導電效果最好。

    l  銀 :高導電性且具有高的二次電子發(fā)射率。濺射上去的銀易于去除,可使樣品成像后還原到其原來(lái)狀態(tài)。

    l  鉑 :在機械泵抽真空的濺射鍍膜系統中它的顆粒尺寸最小,且具有優(yōu)良的二次電子發(fā)射能力。

    l  鈀:用于x射線(xiàn)能譜分析非常理想,因其譜線(xiàn)分布沖突相對較低。

    l  /鈀合金(80:20%):通過(guò)限制沉積期間金顆粒的團聚,鈀可提高最終分辨率。

    l  碳絲蒸鍍:碳絲蒸鍍過(guò)程的閃蒸特性及快速更換碳絲的能力,使其處理樣品速度非???。

    l  碳棒蒸發(fā):用于需要減慢速度但可控性更好的蒸發(fā)過(guò)程,可制備更趨向無(wú)定形的碳膜。

     

    EMS150R S

     

    貨號

    產(chǎn)品名稱(chēng)

    規格

    4500

    EMS150R S Plus Rotary pumped sputter coater, includes an 57mm Ø x 0.1mm gold target

    1

    4501

    Quick-release sputter insert for EMS150R S Plus and EMS150R ES Plus– suitable for non-oxidising (noble) metals. Supplied with A 57mm Ø x 0.1mm thick gold target as standard. For additional noble metal targets (eg Platinum, Gold / Palladium, Silver) see Sputtering Targets section

    1

    4502

    Rotation stage, 50mm Ø with adjustable height for target to sample distances of 38mm-79mm (supplied with 2 mounting pillars). Note: this stage does not tilt – for tilting stage see Specimen Stages section

    1

    EMS150R E

     

    貨號

    產(chǎn)品名稱(chēng)

    規格

    4503

    EMS150R E Plus Rotary pumped carbon fibre evaporator, supplied with carbon fibre / cord

    1

    4504

    Quick-release carbon fibre evaporation insert for EMS150R E and EMS150R ES – suitable for evaporation of carbon fibre and carbon cord

    1

    4506

    Rotation stage, 50mm Ø with adjustable height for target to sample distances of 38mm-79mm (supplied with 2 mounting pillars). Note: this stage does not tilt – for tilting stage see Specimen Stages section

    1

     

     

     

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